SK하이닉스 반도체 핵심 기술 유출했는데, 고작 징역 1년?

 

최근 중국 기업 화웨이의 제품에서 SK하이닉스의 반도체가 나오면서 하이닉스가 미국의 눈총을 받고 있는 가운데, 어이없는 판결이 나왔습니다.

 

바로 SK하이닉스의 반도체 핵심 기술과 과 삼성전자 계열사의 첨단 기술을 중국 경쟁업체에 빼돌린 혐의를 받고 있는 협력업체 부사장이 고작 징역 1년을 선고받았기 때문입니다.

 

게다가 함께 기소된 고위직 임원 두 명에게는 각 징역 1년에 집행유예 2년 및 벌금 3000만원을 선고했으며, 나머지 직원들에게는 징역 8월~1년에 집행유예 2년과 벌금형, 무죄 등을 선고했다고 합니다. 

 

참고로 법인에는 벌금 4억원을 선고했다고 합니다.

 

 

이들이 중국에 빼돌리려고 한 것은 HKMG 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심 기술과 첨단 기술입니다.

 

HKMG는 누설 전류를 막고 정전 용량을 개선한 차세대 공정으로 D램 반도체의 속도를 빠르게 하면서도 소모 전력을 줄여주는 핵심기술입니다.

 

그리고 삼성전자 자회사인 세메스에서 몰래 취득한 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 기술은 이산화탄소로 반도체 기판을 세정해 손상을 최소화하는 국가 핵심 기술이라고 합니다.

 

 

 

하지만 재판부는 SK하이닉스와 공동 개발한 세정 장비 사양을 다른 업체에 알려준 혐의에 대해, 공동 개발 계약서상 대외 발표만 금지한다는 조항 때문에 비밀 유지 위반을 단정하기 어렵다며 무죄를 판단했습니다.

 

그리고 재판부는 “공동 개발 결과물이 아닌 레시피를 평소 몰래 수집하거나 양말에 USB를 넣어 취득해 국외로 유출한 혐의를 모두 유죄로 판단했다”며 “세메스와 관련해서는 인적 네트워크를 이용해 (정보를) 부정하게 취득했다”고 판시했습니다.

 

이어 “레시피와 국가 핵심 기술인 HKMG 관련 공정 기술을 유출했고, 세메스 정보를 몰래 취득해 초임계 세정 장비를 개발해 공정한 경쟁 질서를 위협하는 등 죄질이 좋지 않다”며 “일반 산업 스파이가 해외로 유출하는 것과는 궤를 달리하는 점도 감안했다”고 양형 이유를 밝혔습니다.

 

 

위에서 화웨이가 새로운 제품을 내놓았다고 말씀드렸습니다. 화웨이는 최신 스마트폰 '메이트 60 프로'를 선보였는데, 여기에는 중국의 파운드리(반도체 위탁생산) 기업인 SMIC의 7나노 공정이 적용된 반도체 칩이 탑재됐습니다.

 

SMIC의 7나노 공정은 이미 TSMC가 2018년에 상용화한 기술이지만, 미국의 장비 수출 규제로 첨단 장비를 공급 받지 못하는 상황이었습니다.

 

그런데도 7나노 공정에 성공했다?

 

이것은 전 세계의 반도체 기업들의 기술들이 중국으로 빠져나가고 있다는 것을 합리적으로 의심해 볼 수 있는 대목인 것 같습니다.